iPhone 20可能搭载的屏下Face ID技术，2027年量产成像标准仍不确定，苹果正在测试的方案存在保留缩小版灵动岛或单挖孔的可能。
一、技术瓶颈集中在透光与识别精度
核心难点：屏下Face ID需将红外发射器、接收器等组件完全隐藏于屏幕下方，屏下光学方案在透光率和识别精度上尚未达到量产标准
量产评估：多篇报道将“屏下光学方案能否在2027年秋季达标”列为不确定项，灵动岛保留被列为备选方向
二、配套技术也存在延后风险
COE面板推迟：原计划配套的COE OLED面板可减薄屏幕并提高亮度，但最新预测认为该技术可能到2029年才用于Pro机型
设计备选：若屏下方案无法按时达标，iPhone 20可能保留缩小版灵动岛或单挖孔设计作为过渡
三、苹果同步测试多套方案
测试状态：苹果正同时测试屏下Face ID与屏下前置摄像头方案，目标是取消正面所有可见开孔
未锁定方案：多篇报道指出，iPhone 20的最终形态仍取决于2027年量产前的技术验证结果，苹果尚未锁定最终方案