【日经：三菱瓦斯化学将在中国新建半导体清洗液工厂】

据日经亚洲评论2月12日报道，三菱瓦斯化学将在中国大陆新建半导体清洗液工厂。该产品用于在半导体的生产过程去除微小杂质。三菱瓦斯化学在全球市场占有约五成份额，位居第一http://t.cn/A6iEtg0W ​