靶材龙头：有研新材
有研新材公告：预计一季度归母净利润9000万元到1.1亿元，同比+46%到79%，主要系：集成电路靶材和稀土系列产品销量增加。溅射镀膜是在真空下，用高速离子束流轰击靶材表面，使溅射产物沉积在基材表面的技术，用于制备薄膜材料。被轰击的材料称为靶材，要求高纯度、晶粒均匀！
对于半导体靶材纯度要求通常在99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上，金属原料提纯是靶材产业链的高附加值环节。
集成电路客户对溅射靶材的质量、性能等要求严苛，有严格供应商认证机制，新产品开发到大批量供货需要2-3年时间。溅射靶材的客户认证壁垒与技术壁垒极高，长期被美日公司垄断，日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯合计占据全球80%份额。这四家企业在掌握先进技术后实施严格的技术保密措施，加上溅射靶材具有投资额度大、认证时间长等特点，导致溅射靶材的集中度高。
机构统计，当前所有在建与规划产线2025年全部达产时，中国大陆的折合等效8英寸晶圆产能为710万片，接近2021年有效产能的一倍，拉动靶材需求增长。预计全球/大陆半导体靶材2021-2025年的需求复合增速为7%/20%，2025年市场分别达125/30亿元。2018年底我国进口靶材免税结束，目前靶材产品进口税率达17%，靶材行业在快速国产替代。有研新材是国内靶材龙头，实现了6N高纯铜等靶材原料的自产自供，打破了国外垄断。公司多款12英寸靶材产品在2020年通过验证，在2021年进入各大先进半导体厂实现批量稳定供货。
有研新材目前靶材产能约20000块/年，2021年9月发布扩产公告：设计靶材产能7.3万块/年，其中德州基地新建项目建设期12个月，昌平基地改造项目建设期17个月。预计该项目分别在2022年中/2023年中会投产和达产，对应未来三年的产量复合增速为54%。机构预计公司靶材业务2024年收入27亿元，对应2021-2024年靶材收入复合增速高达50%，届时公司靶材全球市占率将超过20%。预计2022/2023年公司靶材业务利润为1.7/3.2亿元，同比+60%/90%。新增产能完全达产后预计可实现近5亿元利润，约是2020年公司净利润（1.8亿元）的2.8倍。 http://t.cn/EyPFKKk