功率半导体看起来很快可以去美化，中标没有美国设备！

这个估计是110nm/90nm这种比较低规格工艺，但是功率半导体是够的。这次招标已经完全没有美国设备，就光刻机是进口的了。再进步几年，28nm完全国产化可期。

集微网消息，招标平台信息显示，5月10日，上海积塔半导体有限公司（以下简称“上海积塔”）多项设备中标结果公布。北方华创、拓荆科技、芯源微、阿斯麦（ASML）等成功中标上海积塔特色工艺生产线项目33台设备，包括i-line光刻机、KrF光刻机、等离子去胶机、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机等。
其中，北方华创中标10台设备，包括合金化工艺低压立式炉管、缓冲层氧化膜炉管、铝刻蚀机、铝金属物理气相沉积机、铝铜金属溅射设备等；拓荆科技中标3台二氧化硅等离子薄膜沉积设备、8台二氧化硅氮化硅氟化硅氮氧化硅等离子薄膜沉积设备；芯源微中标1台聚合物涂胶显影机；阿斯麦中标2台i-line光刻机、1台KrF光刻机。

积塔半导体去年6月文章：介绍其是一家特色工艺集成电路芯片制造企业，专注模拟电路、功率器件所需的特色生产工艺研发与制造，所生产的模拟电路、IGBT/FRD、SGT/MOSFET、TVS、SiC JBS/MOSFET等芯片广泛服务于汽车电子、工业控制、电源管理、智能终端，乃至轨道交通、智能电网等高端应用市场。截至21年6月，积塔半导体已形成8英寸0.18μm 0.5万片月产能、6英寸SiC 0.25万片月产能。预计2021年底完成8英寸0.11μm 2万片月产能设备的安装调试，2022年上半年形成8英寸0.11μm3.2万片月产能。项目建成后将进一步提升特色工艺线对国家工业和汽车产品的支撑能力，开发先进模拟工艺，发挥对上下游产业的带动效应。