台积电前副总经理林本坚博士芯片科普讲座：光学微影缩IC百万倍。。。

转演讲摘要：

80年代迄今，集体电路中半导体的最小尺寸从5微米缩到5奈米，一共是1千倍，经过21个节点，从面积来算，集体电路缩小了整整一百万倍。这么高的倍数从何而来？增加镜头的孔径只能缩约十倍，从缩短436奈米的波长到193只能缩到44%，两种方法合并起来只能从5微米缩到114奈米。要缩到5奈米还需要很多别的方法。这场演讲会介绍并解释达到波长廿分之一尺寸的工具和方式。

林本坚博士，1942年出生在越南，祖籍广东潮汕 ，美国国家工程院院士，台湾清华大学、台湾交通大学、台湾大学特聘讲座教授，清大—台积电联合研发中心主任。

林本坚1963年获得台湾大学电机工程学系学士；1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程学系博士；2000年—2015年在台湾积体电路制造股份有限公司任资深处长、杰出科技院士和副总经理；2008年当选美国国家工程学院院士；2015年底从台积电退休。
林博士一系列突破性的创新所开拓的浸润式微影（也称光刻）方法，革新了集成电路的制程，使先进半导体芯片的特征尺寸能持续缩减为细微纳米量级，在过去十五年以及可预见的未来，为建造最强大的计算和通信系统做出了关键贡献。2002年，林本坚发明了“浸润式微影技术”，彻底改变了集成电路的生产，有半导体界「浸润式微影之父」之称。这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，林本坚创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米。他通过各种国际研讨会说服同行使用该技术，由此继续将摩尔定律延续下去
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