EUV光刻机进度总结
1. 华中科大成功推出OPC软件
2. 华为申请匀光调试专利
3. 400瓦光源曝光
4. 激光干涉仪获奖
5. EUV光刻胶进度不明

其他的像工件台，曝光系统等都是N年前就突破了的系统

達文西@daawenxi表示：我个人认为我国首台EUV的工程原型机已经出来了，正在调试中。

总结：愚公移山中，勿扰。 ​​​