#光刻胶专利分析#

今天拿出几个东京应化的中文专利分享一下：

1：抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法
链接：http://t.cn/A607ubpI

2：感光性组合物、转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法
http://t.cn/A607ubpM

3：正型感光性树脂组合物、经图案化的抗蚀剂膜的形成方法及经图案化的抗蚀剂膜
http://t.cn/A607ubpc

4：化学放大型感光性组合物、感光性干膜、带镀覆用铸模的基板的制造方法及镀覆造形物的制造方法
http://t.cn/A607ubpf