#光刻胶专利分析#

Inpria Corporation 的EUV专利好像比其他公司的专利简单多了

http://t.cn/A607rPXL

具有低缺陷率的有机金属辐射可图案化涂层及相应方法
http://t.cn/A607rxxa

以有机金属溶液为主的高分辨率图案化组合物
http://t.cn/A607rxxX

我这两天看看，是不是有弯道超车的机会。

据日本媒体报道，日本材料企业JSR（日本合成橡胶）于9月17日发布消息称，将收购位于美国俄勒冈州的光刻胶企业Inpria Corporation。

据悉，JSR曾在2017年获得了inpria 21%的股份，此次JSR将斥资450亿日元（约合人民币24.46亿元）收购Inpria公司剩余的79%的股份，收购工作将于10月底结束。届时，Inpria公司将成为JSR的全资子公司。

据悉，Inpria已涉足开发和制造支持尖端半导体微细加工采用的EUV技术的感光材料（光刻胶），并开发出了比现有的有机物基础EUV 光刻胶光吸收率更高的无机物基础光刻胶，因此在业界备受关注。三星电子、SK 海力士、TSMC等企业均对Inpria进行过投资。

目前，在全球半导体光刻胶领域，主要被JSR、东京应化（TOK）、罗门哈斯、日本信越和富士材料等头部厂商所垄断。其中，在高端半导体光刻胶市场上，全球的 EUV 和 ArF光刻胶主要是 JSR、陶氏和信越化学等供应商，占有份额最大的是 JSR，达到了28%。