提高光刻良率精度的电子特气: 虽然芯片制程中需上千道工序、上百种气体，但光刻机里使用的气体品种非常少。

芯片光刻工艺过程中光刻气体主要有以下几种：氩气Ar、氟气F2、氖气Ne、氙气Xe、氪气Kr

最直接受益的光刻环节属性突出的电子特气为啥没资金看呢？
光刻胶和掩膜板在猛炒，电子特气其实也可以提高光刻良率的。