#半导体[超话]#光刻胶由成膜树脂（聚合剂）、光引发剂、溶剂及添加剂构成。其中树脂占光刻胶总成本的50%，在光刻胶原料中占比最大，其次是占35%的单体和占15%的光引发剂及其他助剂。对于高端光刻胶，树脂所占成本比例更高。

树脂：日本、美国企业目前占据主要市场。国内方面，圣泉集团、彤程新材、徐州博康、久日新材等开始逐步布局。但KrF用聚对羟基苯乙烯类树脂，基本依赖进口，高端的ArF树脂几乎无法买到，EUV 用聚对羟基苯乙烯类树脂，或分子玻璃、金属氧化物，国内几乎空白。

单体：国内公司包括万润股份（ArF/KrF胶单体）、瑞联新材、博康化学(KrF/ArF 单体)以及微芯新材(KrF胶单体)。其中博康化学主要单体产品覆盖5款ArF湿法单体、5款ArF干法单体、6款KrF单体。

光引发剂：被德国巴斯夫垄断，国内有久日新材、扬帆新材、强力新材、固润科技、双键化工等，其中久日新材是全国产量最大、品种最齐全的光引发剂生产供应商，光引发剂业务市场占有率约30%。

溶剂：主要为PGMEA（丙二醇甲醚酸醋酯，简称PMA），大陆自给率较高，产能占据全球总产量的35%左右。生产企业有百川股份、瑞佳化学、怡达化学、华伦、德纳国际等。