国产半导体材料的瓶颈--光刻胶也在大踏步前进 [并不简单]

国内研发传统聚合物光刻胶的企业有很多，走新路线研发光刻胶的也有。

清华大学和浙江大学联合研发的新型光刻胶系统，可使印刷速度提高1000倍 [打call]

国产半导体产业链各个环节都在高速进步，不仅仅在半导体设备领域，半导体材料也是如此[酷]

清华大学核能与新能源技术研究院何向明研究员和徐宏副教授和浙江大学光电科学与工程学院匡翠方教授合作展示了一种极其灵敏的氧化锆杂化-(2,4-双(三氯甲基)6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪)(ZrO2-BTMST)光刻胶系统，可以实现7.77 m s–1的印刷速度，比传统聚合物光刻胶快三到五个数量级。

图源网络