根据有关人士透露，由上海半导体公司研发的光刻装备以及ASML公司研制的深紫外光刻机，在193nm的渗透模式下，通过多次曝光，可以实现7纳米及更高工艺水平的大规模制造。尽管日本信越化工突然出现的供货中断，对国产晶片市场产生了一些冲击，但也加速了我们向自主供货的速度。景瑞在投资者论坛上宣布：公司自主研发的氟碳棒技术已经在国际上处于领先地位，并且已经为中芯国际，合肥长鑫等国产半导体企业提供了产品。彻底改变对日本产品的依赖。#光刻机##半导体#
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