来自荷兰阿姆斯特丹自由大学的Tamar van Gardingen-Cromwijk在Light：Advanced Manufacturing上发表了论文，主要探讨了在半导体制造业中应用暗场数字全息显微术来提高晶圆计量的精度。文章重点研究了如何通过计算校正非等距成像系统中常见的像差，以实现在可见光到近红外区域的高分辨率成像，从而更准确地测量集成电路中的层间错位。http://t.cn/A6jlv3b0
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