一些国内的半导体工艺研究进展 [并不简单]

图一有点意思 [偷笑]

图二是国内N3节点工艺研究

在7nm以下的先进工艺研究上，国内是多条路线饱和式研发，光某公司就不止两条路线。

一条是参与甚至主导国产EUV光刻机研发，另一条是继续魔改国外DUV光刻机，比如把光源换成157nm提升套刻精度。

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