ASML 向英特尔交付世界首台商用 High-NA EUV 光刻机（高数值孔径极紫外光刻机）并安装完成，售价 4 亿美元，重达 150 吨，这是迄今为止人类造就的最先进、最昂贵、最复杂的光刻机。
该设备将被用于先进半导体芯片制造，能实现 8nm 线宽，支持 1.4nm 或更小制程，用于未来 Intel 14A 工艺开发。
发布于 陕西
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