近日，工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》

大家主要是关心的2.1.5和2.1.6，也就是KrF、ArF光刻机

2.1.5 248nm：分辨率 <= 110nm 的 KrF 光刻机
[星星]注意分辨率不是工艺节点！

2.1.6 193nm：分辨率为 <= 65nm 的 ArF 光刻机。
[星星]这可能是干式版本，因为 DUV 浸没式版本分辨率是 38nm

国产Arf DUV 套刻精度仅为 <= 8nm，还是比较菜的。

作为参考，ASML DUV 入门级浸没式 NXT：1980Fi 套刻精度 2.5nm
ASML 的 KrF 光刻机<= 5nm
ASML 的干式 ArF 工具，<= 4.5 nm

28nm浸没机SSA800i目前正在线上跑着，但没有上名单[二哈]
EUV完全不知道啥情况。

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其实还有许多的东西
比如说， ASML大发慈悲，送了一个 NXT-2100
然后你还得搞几个可以沉积光刻胶且均匀性的涂层显影工具
几个用于不同材料的沉积工具
几个具有足够的均匀性和稳定吞吐量，用于氧化的炉子和用于掺杂的离子注入机
少量RPT 退火工具
一些用于晶圆的化学机械抛光机
少量可以处理现代晶体管高纵横比的蚀刻工具
大量精密清洁工具
一堆用于良率监控的计量工具
若干套刻计量和 CDSEM。

然后，一堆大大小小的供应商帮你调配对应制程的光刻胶、光刻气、液体及其传输子系统、光刻机的隔振等材料。

这些工具中的每一个都得自己搞避免被卡脖子。

还好，整出来了。

#光刻机#