#光刻机#
中国自主研发的光刻机取得了关键性突破，如氟化氩光刻机，其分辨率达到65纳米，与荷兰ASML的同类产品相当。这一设备的推出，标志着中国在光刻机领域实现了重大技术跨越，有望打破国外技术垄断。
一步一个脚印，脚踏实地，全力以赴，没有做不到的[拳头]
发布于 北京