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《突破》

据中国光谷公众号，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破。

武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。
太紫微公司致力于半导体专用高端电子化学品材料的开发，并以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术，同时为材料的分析与验证提供最全面的手段。

“无论是从国内半导体产业崛起的背景来看，还是从摩尔定律演变的规律展望未来，‘百家争鸣’的局面已形成，光刻领域还会有很多新技术、新企业破茧成蝶，但拥有科技创新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘专家顾问向诗力博士表示。