前ASML首席科学家林楠推动中国EUV最新突破
论文显示，研究团队在固态激光驱动的光刻研究中取得了世界一流的成果。一份研究论文称，中国研究人员通过构建一个以国际竞争参数运行的极紫外 (EUV) 光源平台，突破了国产先进芯片的障碍。该团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所，由曾任荷兰ASML公司光源技术负责人的林楠领导。