【芯慧通·热点】5月20日，根据上海新阳（股票代码：300236.SZ）在投资者互动平台披露，公司光刻胶产能规划进行调整。

根据公司披露，公司目前已建成光刻胶产能100吨，未来三年将原计划在合肥生产基地规划建设的500吨产能转移到上海化工区生产基地建设。

根据上海新阳去年8月投资者调研活动披露，公司自主研发的光刻胶产品报告期内销量显著增加，其中I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升，满足客户的工艺需求，在超20家客户端进行测试验证。ArF光刻胶研发顺利推进，浸没式光刻胶目前已有多款产品在国内多家晶圆制造企业开展测试验证工作，部分型号产品已取得良好的测试结果及工艺窗口，技术指标与对标产品比较接近。

据公开资料显示，上海新阳半导体材料股份有限公司（股票代码：300236）创立于1999年7月，二十多年来公司专注于半导体行业，致力于为用户提供集成电路关键工艺材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案，其业务涵盖集成电路制造、先进封装及配套设备的研发、生产和服务，同时涉及环保型和功能性涂料的研发与生产。公司主要产品包括电镀液、清洗液、光刻胶、研磨液、功能性涂料等，广泛应用于半导体制造、封装、太阳能产业和航空航天等领域。其中，电镀液和清洗液是公司的核心产品，已覆盖芯片铜制程的90nm-28nm工艺技术。#芯片[超话]##集成电路材料##集成电路[超话]#