光刻机/胶概念股梳理

中国自己光刻机必将造出来

阿石创：国内PVD镀膜材料龙头，产品用于光刻胶涂覆环节，突破高端靶材技术壁垒。
上海机电：参股上海微电子，旗下真空泵产品进入国产光刻机供应链。

汇成真空：国内唯一半导体镀膜设备供应商，深度绑定上海微电子。

张江高科：持有上海微电子10.78%股权，28nm光刻机量产预期下估值弹性大。

茂莱光学：精密光学龙头，DUV物镜系统市占率62%，单机价值量达5000万元。

福晶科技：全球最大LBO/BBO晶体供应商，产品用于AS­ML光刻机光源系统。

北方华创：国产光刻机双工件台唯一供应商，精度达0.1纳米，供货上海微电子。

蓝英装备：光刻机光学清洗设备龙头，国产化率超80%，客户覆盖中芯国际、长江存储。

南大光电：国内唯一量产ArF光刻胶企业，导入中芯国际28nm产线。

新莱应材：光刻机超高真空系统供应商，泄漏率达10⁻⁹Pa·m³/s，国产化率提升至45%。

凯美特气：光刻气领域AS­ML认证供应商，7N级纯度产品打破日本垄断，市占率超30%。

富创精密：光刻机反应腔结构件全球供应商，订单同比增长120%，客户覆盖中芯国际。

晶方科技：光刻机透镜核心供应商，通过AS­ML认证，产品应用于EUV光学系统。

波长光电：光刻机平行光源系统供应商，准分子激光器光学元件市占率超40%。

永新光学：光刻机对准检测模块供应商，光学部件精度达纳米级，独家国产化。

炬光科技：光刻机光学系统核心供应商，技术打破德国垄断，市占率超35%。

海立股份：光刻机冷却系统供应商，中报预增625%，独家配套上海微电子。

同飞股份：光刻机专用冷水机供应商，温控精度±0.1℃，国产替代率超60%。

美埃科技：光刻机洁净室系统供应商，ISO Cl­a­ss 1级标准设备市占率超40%。

芯源微：从事涂胶显影设备等半导体专用设备的研发、生产和销售。

中旗新材：实控人旗下星空科技掌握600×600mm大尺寸光刻机专利，主攻i线/KrF机型，覆盖第三代半导体及封装环节，预计2026年贡献收入9亿元。贺荣明计划将光刻机、键合机等设备资产注入上市公司，形成“材料-设备-工艺”全产业链闭环，远期对标AS­ML供应链体系。

腾景科技：光刻机合束器供应商，多波段光学元件进入上海微电子供应链。

永新光学：光刻机对准检测模块供应商，光学部件精度达纳米级，独家国产化。

光刻胶

彤程新材：光刻胶领域企业，在国产半导体材料领域积极布局。

晶瑞电材：涉及光刻胶等半导体材料业务，助力半导体产业链发展。

容大感光：专注于光刻胶等电子化学材料研发、生产和销售。

上海新阳：为半导体制造提供光刻胶等关键材料及配套服务。

阳谷华泰：通过收购波米科技切入光刻胶领域，在光刻胶方面有较强的布局，波米科技专注于研发光敏性聚酰亚胺光刻胶（PS­PI），波米科技是华为首次颁发“最佳技术突破奖”和“最佳合作伙伴奖”的封装材料供应商，与华为海思建立了战略合作关系。其光敏性正胶产品已经占领了国内市场约15%的份额，用于晶圆级封装的负胶产品在长电和盛合晶微已经实现批量供货。

鼎龙股份：公司已布局20多款高端晶圆光刻胶，包括8支高端KrF光刻胶和8支浸没式ArF光刻胶，其中7支已完成客户送样并获得认可，逐步进入量产阶段。2024年12月，公司公告一款浸没式ArF晶圆光刻胶及一款KrF晶圆光刻胶产品顺利通过客户验证，并分别收到共两家国内主流晶圆厂客户的订单。

北交所

华岭股份：半导体测试服务涉及光刻工艺验证，2024年测试收入中15%来自光刻机相关芯片，具备7-28nm先进制程测试能力，服务覆盖CPU、MCU等芯片。

佳先股份：子公司英特美建设年产700吨电子材料中间体项目，其中对乙酰氧基苯乙烯（PO­St）产能500吨/年，是KrF和EUV光刻胶树脂的关键原料。国内少数具备光刻胶树脂原料规模化生产能力的企业，通过与徐州博康等企业合作，加速国产替代进程，2024年光刻胶相关营收占比提升至35%。

阿为特：直接供货上海微电子、华海清科，间接通过An­t­e­r­y­on进入AS­ML供应链。拥有千级洁净室及清洗线，精密件精度达纳米级，2024年半导体业务营收占比超40%。

同惠电子：核心产品TH510半导体光刻机测试仪，测试精度达0.1nm，毛利率超70%，打破是德科技垄断。2024年推出双CPU架构测试仪，支持7nm制程检测，已进入中芯国际、华虹半导体供应链。

凯华材料：凯华材料的光刻气获得了国内唯一的AS­ML+GI­G­A­P­H­O­T­ON双认证，子公司英特美建设年产700吨电子材料中间体项目，其中对乙酰氧基苯乙烯（PO­St）产能500吨/年，是KrF和EUV光刻胶树脂的关键原料。

上海微电子：电气风电、华建集团、上海电气

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