国产光刻机概念股是指在光刻机产业链中具有相关业务或技术，从而受益于光刻机国产化进程的上市公司股票。以下是一些常见的国产光刻机概念股：

• 整机相关：张江高科，通过子公司参股上海微电子，持股比例约10.78%，上海微电子是国内唯一的前道光刻机整机厂商，其SSA600系列DUV光刻机已实现90nm制程。

• 光学系统：

◦ 茂莱光学：为光刻机提供透镜组、平场透镜等光学元件，DUV物镜系统良率达国际水平，面形精度达0.5nm RMS，适配上海微电子28nm机型。

◦ 福晶科技：全球激光晶体龙头，供应光刻机准分子激光器的核心非线性光学晶体，产品用于光刻机激光光源系统，参与中科院EUV光源研发。

◦ 波长光电：国产准分子激光器核心供应商，棱镜/透镜组支持65nm-28nm制程，通过上海微电子验证，2025年产能扩至500台/年，覆盖90%国产DUV需求。

• 核心部件：

◦ 奥普光电：中科院长光所旗下企业，承担国家02专项，为上海微电子提供光刻机用超高精度干涉仪，并参与曝光光学系统研发，其超精密光栅编码器定位精度0.08nm。

◦ 富创精密：精密结构件供应商，为光刻机提供真空腔体、框架等，直接供货北方华创、上海微电子，2025年光刻机订单同比激增120%。

◦ 蓝英装备：掌握EUV/DUV光学系统清洗技术，颗粒残留＜0.1μm，国产化率80%，2025年Q1对ASML清洗设备供应增120%，同时为上海微电子定制方案。

• 光刻胶及材料：

◦ 南大光电：国内唯一量产ArF光刻胶的企业，通过中芯国际28nm验证，规划500吨/年产能，2025年出货量预计150吨，满足国内15%需求。

◦ 晶瑞电材：光刻胶国产替代主力，KrF光刻胶已量产，ArF产品通过验证，配套试剂用于光刻机清洗。

◦ 苏大维格：纳米压印光刻技术领先，研发用于光刻机的衍射光学元件，是国内唯一量产光刻机定位光栅的企业，用于28nm光刻机双工件台，定位误差≤1.5nm。

#半导体##东方财富[超话]#