国产光刻机攻克10nm工艺，自主可控迈里程碑！

事件：据报道，我国自主研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已通过验收，并交付国内特色工艺客户。该设备实现多项关键技术突破，可支持线宽小于10nm的纳米压印光刻工艺。

这一消息为光刻机板块带来利好。尽管去年我国半导体出口规模创下历史新高，但在高端制程领域仍面临外部制约，其中光刻机与高端光刻胶是关键“卡脖子”环节。此次国产光刻机实现10nm工艺突破，不仅是我国在高端半导体装备制造领域的重要进展，打破了国外厂商的技术垄断，更成为我国半导体设备实现自主可控的里程碑。受此影响，昨日A股光刻机板块异动明显，盘后交易数据显示主力机构有少量加仓。通常，板块启动首日主力进场，意味着其对该板块关注度较高。

持续周期：短线

操盘策略：光刻机板块指数随大盘实现三连阳，昨日表现显著强于大盘，同时存在技术超买现象。未来几日可能在高位震荡，等待5日线跟进。后续能否延续强势，关键看主力机构态度。若震荡期间主力继续加仓，板块的持续性和爆发力值得期待。

相关公司（包括但不限于）：京华激光（603607）、张江高科（600895）、泰晶科技（603738）、蓝英装备（300293）等。