寻找下一个寒王，光刻机领域最具代表性的公司一文全解析梳理。（珍藏版）

第一家：奥普光电
自主研发的纳米级光刻机工作台国内市占率超60%，配套上海微电子SSA六零零系列光刻机，精度达亚微米级，工作台定位精度误差＜1.7nm，效率提升35%，在国内光刻机工作台领域具有唯一性。

第二家：福晶科技
激光晶体全球核心，全球80%的LBO、BBO晶体由其供应，是光刻机光源核心材料（LBO/BBO晶体）唯一国产供应商，还开发了反射镜镀膜材料，适配EUV光刻机超精密光学系统，在该领域具有唯一性。

第三家：茂莱光学
光刻机曝光物镜超精密光学元件唯一国产供应商，掌握纳米级加工技术，透镜面形精度＜λ/50（λ=632nm），满足EUV级光学需求，为上海微电子提供匀光模块，并切入ASML中低端设备供应链，具有唯一性。

第四家：波长光电
国内DUV光刻机投影物镜唯一量产企业，110nm分辨率物镜已用于上海微电子产线，EUV级物镜进入中试阶段，还与长春光机所合作开发物镜数值孔径（NA=0.75），支持65nm以下制程，在该细分领域具有唯一性。

第五家：永新光学
光刻机对准检测模块光学部件独家国产化企业，参与国家“极大规模集成电路制造技术”专项，在光学领域具有深厚的技术积累和先进的制造工艺，在该特定光学部件领域具有唯一性。

第六家：赛微电子
其MEMS镜片打入ASML供应链，是国产光刻镜头核心企业，通过收购瑞典Silex掌握MEMS工艺，为光学系统提供微纳制造技术，在微机电系统（MEMS）领域具有领先的技术和丰富的经验，在该领域具有一定的唯一性。

第七家：蓝英装备
光刻机晶圆清洗设备国产替代的唯一标的，其瑞士子公司UCM AG为ASML提供EUV清洗设备，精度达0.1μm以下，技术全球领先，在清洗设备领域具有深厚的技术积累和丰富的市场经验，具有唯一性。

第八家：美埃科技
中芯/长江存储光刻环节洁净系统主供应商，在半导体洁净室领域具有较高的技术水平和市场份额，为光刻环节提供高质量的洁净系统解决方案，在A股市场中，针对光刻环节洁净系统供应方面具有唯一性。

第九家：凯美特气
公司生产的光刻气产品通过了ASML子公司Cymer公司的审查，被列入合格供应商名单，成为国内唯一获此认证的企业。公司采用先进技术生产超高纯气体，将光刻气纯度提升至99.9999%（6N级），达到国际顶尖水平，覆盖了ArF/KrF等多种光刻气品类。

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