#科技[超话]# 2025年9月29日，中国科学技术大学团队在《自然通讯》上发表了极低温直写技术。该团队开发的“低温原位直写”技术，解决了长期以来困扰量子计算机等前沿科技的“布线瓶颈”问题，为未来量子芯片的规模化和稳定性提供了关键支撑
研究团队选择LaAlO₃/SrTiO₃氧化物界面作为“导电画布”，该界面在极低温下会自然形成“关联二维电子气”导电通道。通过在衬底施加脉冲电压，可控制导电通道的“通”与“断”，制备出高性能的低温场效应晶体管。还可用紫外或红外激光照射已“关闭”的区域，局部恢复其导电性，实现“光笔”画导线，若画错，加电压脉冲可“擦掉”重来。
该技术开关比接近10，信号清晰；最低工作电压仅0.5mV，功耗极低；无需光刻胶，实现“绿色制造”；可重复擦写，能为超导量子计算、低温集成电路、可重构芯片等领域提供全新的器件构建思路。
未来或许能在量子处理器内部直接“绘制”控制电路，大幅减少与外界的连线，让量子计算机更紧凑、更稳定、更高效。 http://t.cn/AX79vmT8