【张捷聊科技】刻蚀机的突破与中国芯片突围#热点观点# #张捷聊科技# 中国刻蚀机技术获重大突破，国光量超发布 1nm 离子束刻蚀机，中微半导体自主研发的等离子体刻蚀机实现 1 纳米级工艺能力，核心精度达 0.02 纳米，性能较国际主流 2 纳米设备提升百倍，打破技术垄断，标志我国高端半导体设备进入全球先进行列。刻蚀机对芯片制造至关重要，精度影响良品率。当前我国特细刻线光刻机有差距，可通过刻蚀机配合多次曝光技术实现细刻线，但存在良品率下降、晶体管数量增加有限等问题。不过，此次突破仍能提升芯片主频、降低能耗，缓解散热压力，对我国半导体突破 “卡脖子” 难题意义重大，还带动国内半导体代工产业向好。 http://t.cn/AX7psrZf