很多人在问新凯来….

那一起来大致了解下新凯来与光刻机不得不说的故事吧

新凯来成立于2021年，由深圳国资委通过深圳市重大产业投资集团全资控股，其核心使命是突破光刻机等半导体设备“卡脖子”技术。2025年SEMICON China展会上，新凯来首次亮相便发布五款核心设备，包括EPI“峨眉山”、ALD“阿里山”、CVD“长白山”、PVD“普陀山”、ETCH“武夷山”，全面覆盖半导体前道制造核心环节。

在光刻技术方面，新凯来计划2025年下半年小规模调试DUV光刻机，2026年实现DUV光刻机量产，采用“干式DUV原型机+SAQP四次曝光”路径逼近5nm节点。其深紫外物镜分辨率达22nm，已完成相关验证并适配原型机，且2026年计划量产EUV光学模组。此外，新凯来还通过与华为联合定义技术路线、中芯国际导入SAQP工艺到产线等方式，加速技术从实验室到量产的落地。

据报道，新凯来已成功研发分辨率达28纳米的国产DUV光刻机，超越了上海微电子65纳米的水平，同时其EUV光源预研已启动，瞄准3nm以下制程。

新凯来还将于10月15日至17日参加2025湾区半导体芯片展，并会“给大家带来惊喜”，可能涉及光刻机的新产品或新技术发布。

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