【风口研报】国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准。此外10月25日，北京大学团队及合作者在光刻胶领域取得新突破，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。中国银河证券表示，光刻胶技术进步可以促进相关产业链的协同发展，上游材料供应商、设备制造商，中游光刻胶生产企业，以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。光大证券指出，半导体材料板块正处于需求扩张与国产替代的共振阶段。光刻胶等核心材料既受益于晶圆投片量增加，又面临国产化率提升的政策支持。预计2025年中国大陆光刻胶市场规模同比增长6.8%至179亿元。#光刻胶##光刻机##EUV##国产替代#http://t.cn/AXweTqoH