【高盛报告：中国光刻机停在65nm ，落后西方20年】外资投行高盛最新报告指出，中国国产光刻机目前还停留在65纳米制程，至少落后西方巨头20年。

报告称，荷兰ASML的光刻机关键零部件依赖美国技术，美荷两国联手限制出口，导致中国晶圆厂难以获得先进设备。即便中芯国际能生产7纳米芯片，大概率也是靠ASML较旧DUV光刻机造出来的。

高盛还援引公开数据称，ASML从65纳米做到3纳米以下，花整整20年、砸进400亿美元。以中国目前的技术积累、资金投入和供应链水平，短期内想追上难度极大！#荷方继续一意孤行#