科研人员研发“闪速退火”工艺 ，一秒“炼”就晶圆级高性能储能薄膜。
财联社11月15日电，近日，中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家研究中心胡卫进研究员团队携手合作者，开发出一种热处理升降温速率可达每秒1000摄氏度的“闪速退火”工艺，成功制备出晶圆级高性能储能薄膜。#储能#
发布于 广东
亿豪深圳哥