作品参加ART 021 上海当代艺术博览会
谢谢西馬画廊，团队为此做了充分的准备，精细的安排和布局，㊗️大卖！
新的系列《被复制的统一表情》，自2023年首发以来，一路受到学术界认可：
Top20中国当代摄影新锐展2025，
北京国际摄影周Top10 2024，
青年艺术100 2024，
第二届成都国际摄影周优秀摄影艺术家2023……
发布于 上海