富士推出GFX100RF藤原浩联名限量版，从软件到硬件贯彻了FGMT风格美学
首先外观设计上，油漆配方改变，并对黑漆进行了手工抛光处理，呈现镜面一般的漆面。黑色蒙皮采用新材料，呈现细微凹凸与哑光质感。相机顶罩与遮光盖等处融入「fragment design」标志。
软件上，限定版「fragment design」开机画面，以ACROS为基础，内置全新的胶片模拟FRGMT BW（下篇单独说）
发布于 重庆