近日，中国科学院金属研究所等开发出一种热处理升降温速率可达每秒1000摄氏度的“闪速退火”工艺，成功制备出晶圆级高性能储能薄膜。该研究为下一代高性能储能电容器件的制造开辟了一条新路径。http://t.cn/AXywvfvV ​