北京大学彭海琳教授、高毅勤教授、郑黎明博士与清华大学王宏伟教授、香港大学刘楠博士等率先通过冷冻电子断层扫描（cryo-electron tomography, cryo-ET）技术，跨界找到研发5nm以下光刻胶的新途径。

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