上海微电子中标1.09亿元步进扫描式光刻机政府采购项目！

‌ 这次中标的是SSC800/10，是基于‌ArF浸没式技术‌（与SSA800/10i为同一系列型号），单次曝光可支持‌28纳米‌制程节点，结合多重曝光技术可延伸至‌7纳米及以上‌制程。

其核心精度达到国际主流水平，如投影物镜镜头组畸变率控制在‌2纳米以内‌，工件台定位精度达‌0.3纳米分辨率‌，国产化率超过‌70%‌，关键部件如光源系统、光学镜头和双工件台已实现自主可控。‌