拾麦者说 26-01-08 08:30
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半导体设备材料领域具有对日替代潜力的概念股汇总,供参考:
1.光刻胶领域
· 彤程新材:国内KRF光刻胶领军企业,市占率较高,产品覆盖G/I线、KRF光刻胶及配套试剂,已通过中芯国际、华虹半导体等验证并批量供应。
· 南大光电:国内唯一实现28nm制程ARF光刻胶量产的企业,产品技术水平国内领先,电子特气(磷烷、砷烷)也供应国内主流晶圆厂。
· 晶瑞电材:光刻胶产品线较全,KRF光刻胶通过华虹半导体验证,同时湿电子化学品配套中芯国际、台积电南京厂,同步推进ARF光刻胶研发。
· 鼎龙股份:布局近30款高端晶圆光刻胶,超15款产品送样客户验证,部分产品实现小批量供货,尤其在浸没式ARF及KRF晶圆光刻胶领域进展较快。
2.湿电子化学品领域
· 江化微:湿电子化学品用于12英寸晶圆,客户包括华虹半导体、长江存储,替代日本关东化学中高端产品。
· 格林达:显影液、剥离液供应京东方、中芯国际,12英寸晶圆用湿电子化学品产能扩张,加速替代日本三菱化学。
· 兴福电子:湿电子化学品进入长江存储、长电科技供应链,高纯双氧水、氨水产品打破日本旭化成垄断。
3.电子特气领域
· 华特气体:光刻气(氟化物气体)通过ASML认证,供应中芯国际、台积电南京厂,替代日本空气液化高端特气。
· 金宏气体:电子特气(高纯氨气、氮气)批量供应台积电南京厂、中芯国际,产能规模国内领先,替代日本住友化学。
· 中船特气:高纯特气(三氟化氮、四氟化碳)用于先进制程,客户拓展至中芯国际、华虹半导体,加速替代日本企业。
4.CMP材料领域
· 安集科技:CMP抛光液国产市占率超40%,供应台积电、三星、中芯国际,替代美国Cabot,先进封装用抛光液研发突破。
· 鼎龙股份:CMP抛光垫批量销售至长江存储、中芯国际,打破美国Dow(陶氏化学)垄断,配套抛光液形成一体化供应。
5.半导体硅片领域
· 沪硅产业:12英寸硅片量产,供应中芯国际、华虹半导体,良率持续提升,替代日本信越、SUMCO。
· 立昂微:8英寸硅片稳定供应,12英寸硅片进入验证阶段,客户包括中芯国际、士兰微,加速国产替代。
· 有研硅:专注于半导体硅片研发与生产,产品覆盖8英寸、12英寸硅片,逐步实现国产替代。
6.靶材领域
· 江丰电子:全球溅射靶材行业的核心企业,客户覆盖国内外主流芯片制造商,产品广泛应用于半导体制造。
· 有研新材:旗下有研亿金是国内重要的贵金属及稀贵金属靶材供应商,为半导体制造提供关键材料。
· 阿石创:PVD镀膜材料领先企业,在钼靶材等领域具有全球竞争力,填补国产替代空白。以上企业均在半导体设备材料的细分领域取得一定突破,具备对日替代的潜力,但实际进展和市场表现可能因技术、客户验证等因素存在差异。投资需结合企业基本面、行业动态等因素综合判断。

发布于 北京