A股EUV 光刻机相关核心上市公司

EUV 光刻机整机仍由上海微电子（未上市）攻坚，A 股暂无整机公司；但在光源、光学、工件台、材料、精密件五大核心环节，已有一批 A 股头部公司实现关键技术突破，深度参与国产 EUV 研发与 ASML 供应链。

一、A 股 EUV 核心环节头部公司简介（按技术壁垒排序）

1. 光源系统（心脏）：EUV 最难突破环节
核心痛点：LPP（激光等离子体）光源需 13.5nm 极紫外光、功率≥250W、寿命≥1000 小时，ASML 独家垄断。
（1）万业企业（600641）—— 唯一自研 LPP-EUV 光源的 A 股公司
核心突破：全资子公司万业元创聚焦 LPP-EUV，攻克高功率激光驱动、锡靶材喷射、等离子体收集、真空环境控制四大核心技术。
最新进展：松山湖小试产线已启动，衢州年产 5 套基地在建；2026 年 Q2–Q3 推出100W 级 LPP-EUV 原型机，2027 年目标 250W 工程样机。
技术亮点：锡靶材喷射精度达0.1μm，等离子体收集效率 **≥35%，镜面寿命提升至1200 小时 **，接近 ASML 水平。
替代进度：★★★☆☆（原型机阶段，国内领先）
（2）炬光科技（688167）—— 高功率激光光源核心供应商
核心突破：千瓦级飞秒超快激光器、高功率紫外纳秒激光器量产，为 EUV 光源提供种子源、放大级、脉冲整形核心模块。
技术亮点：激光脉冲宽度 **<10fs**，峰值功率 **>100GW**，光束质量 M²<1.1，满足 EUV 光源对激光的严苛要求。
客户：科益虹源（DUV/EUV 光源）、上海微电子、万业元创。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国内唯一）
（3）福晶科技（002222）—— 全球非线性光学晶体龙头
核心突破：LBO、BBO、KBBF 晶体全球市占率80%+，为 EUV 光源提供激光频率转换、谐波产生核心材料。
最新进展：2026 年初推出EUV 专用高功率激光晶体，耐受功率 **>100W**，损伤阈值提升50%，打破国际垄断。
客户：ASML（间接）、科益虹源、炬光科技、上海微电子。
替代进度：★★★★★（全球垄断，国产完全替代）
（4）凯美特气（002549）/ 华特气体（688268）—— EUV 光刻气核心供应商
核心突破：高纯氖气、氪气、氙气（EUV 光源必需特种气体），纯度达99.99999%，通过 ASML、中芯国际认证。
最新进展：华特气体 2026 年初高纯氖气混合气项目投产，填补国内空白；凯美特气 EUV 光刻气年产能 100 吨，国内唯一。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国产替代加速）

2. 光学系统（眼睛）：EUV 第二大壁垒
核心痛点：投影物镜需纳米级精度、极低畸变、超高纯度镜片，单套价值占整机20%-30%，蔡司独家垄断。
（1）茂莱光学（688502）—— ASML 唯一中国光学供应商
核心突破：纳米压印衍射光学元件、超精密光学镜头、EUV 光学模组，精度达0.1nm RMS，全球领先。
技术亮点：为 ASML 供应EUV 光刻机光学检测、投影物镜核心组件；同时为上海微电子 EUV 提供光学系统解决方案。
客户：ASML、蔡司、上海微电子、中芯国际。
替代进度：★★★★☆（进入 ASML 供应链，国产核心）
（2）腾景科技（688195）—— 精密光学元件龙头
核心突破：EUV 专用分束器、波片、棱镜，加工精度 **<5nm**，表面粗糙度 **<0.1nm**，适配 EUV 光学系统。
技术亮点：光学元件自主化率 100%，打破海外对 EUV 光学元件的垄断。
客户：上海微电子、万业企业、科益虹源。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国产领先）
（3）蓝特光学（688127）—— 高精度光学棱镜 / 透镜供应商
核心突破：EUV 光刻机精密光学棱镜、透镜，面形精度0.5nm RMS，满足 EUV 光学系统对镜片的严苛要求。
客户：上海微电子、茂莱光学、国内头部光学企业。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国产核心）

3. 双工件台系统（运动心脏）：EUV 第三大壁垒
核心痛点：需纳米级定位、亚纳米级同步、高速运动，定位精度 **<2nm**，ASML 独家垄断。
（1）华卓精科（688127）—— 国内唯一 EUV 双工件台供应商
核心突破：EUV 光刻机双工件台，定位精度1.7nm，同步精度 **<0.5nm**，运动速度 **>600mm/s**，良率 **>95%**。
技术亮点：全球首创六轴联动双工件台，适配 EUV 光刻机，打破 ASML 垄断。
客户：上海微电子、万业企业。
替代进度：★★★★☆（工程样机验证，国内唯一）
（2）苏大维格（300331）—— 纳米级定位光栅龙头
核心突破：EUV 光刻机定位光栅，精度达0.1nm，为双工件台提供纳米级定位基准。
最新进展：2025 年推出新一代纳米级定位光栅，适配上海微电子 EUV 光刻机。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国产核心）

4. 精密运动与控制系统（神经中枢）
（1）奥普光电（002338）—— 精密光电测控龙头
核心突破：EUV 光刻机精密光电传感器、运动控制系统，测量精度 **<1nm**，响应时间 **<1μs**。
客户：上海微电子、华卓精科、万业企业。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国产核心）
5. 高端材料与零部件（基础）
（1）鼎龙股份（300054）—— 半导体材料平台型龙头
核心突破：EUV 光刻胶配套材料、抛光垫、CMP 耗材，填补国内空白。
替代进度：★★★☆☆（验证阶段，国产替代加速）
（2）富创精密（688409）—— 半导体精密零部件龙头
核心突破：EUV 光刻机真空腔体、精密结构件，加工精度 **<5μm**，表面粗糙度 **<0.1μm**。
客户：上海微电子、北方华创、中芯国际。
替代进度：★★★★☆（批量供货，国产核心）

二、A 股 EUV 核心公司技术突破与替代进度

环节 公司 核心技术突破 替代进度 确定性
光源系统 万业企业 LPP-EUV 光源原型机（100W ★★★☆☆ ★★★★☆
光源系统 炬光科技 高功率超快激光器 ★★★★☆ ★★★★★
光源系统 福晶科技 EUV 专用激光晶体 ★★★★★ ★★★★★
光源系统 华特气体 EUV 光刻气（氖 / 氪 / 氙） ★★★★☆ ★★★★★
光学系统 茂莱光学 ASML 光学组件 + 国产 EUV 光学 ★★★★☆ ★★★★★
光学系统 腾景科技 EUV 精密光学元件 ★★★★☆ ★★★★☆
工件台 华卓精科 EUV 双工件台（1.7nm 精度） ★★★★☆ ★★★★☆
定位系统 苏大维格 纳米级定位光栅 ★★★★☆ ★★★★☆
精密件 富创精密 EUV 真空腔体 / 结构件 ★★★★☆ ★★★★☆

三、投资逻辑与核心标的（2026 年）

1. 核心投资主线
光源优先：EUV 最难突破环节，万业企业、炬光科技、福晶科技确定性最高。
光学核心：进入 ASML 供应链 + 国产 EUV 核心，茂莱光学、腾景科技弹性最大。
工件台稀缺：国内唯一，华卓精科壁垒最高。
材料刚需：EUV 必需，华特气体、凯美特气业绩兑现最快。

2. 核心标的组合（按确定性排序）
福晶科技（002222）：全球激光晶体龙头，EUV 光源核心材料，完全替代，业绩确定性最高。
茂莱光学（688502）：ASML 唯一中国光学供应商，国产 EUV 光学核心，弹性最大。
炬光科技（688167）：高功率激光光源核心，EUV 光源必备，国内唯一。
万业企业（600641）：唯一自研 LPP-EUV 光源的 A 股公司，原型机即将推出，长期空间最大。
华卓精科（688127）：国内唯一 EUV 双工件台供应商，壁垒最高。
华特气体（688268）：EUV 光刻气核心供应商，业绩兑现最快。