【全球首发|杭州镓仁突破8英寸氧化镓同质外延，引领第四代半导体产业化浪潮】2026年3月，杭州镓仁半导体有限公司(以下简称“镓仁半导体”)在外延技术上取得了重大突破，成功实现了高质量8英寸氧化镓同质外延生长，在国际上尚属首次。外延片检测结果显示：外延片膜厚＞10μm，且膜厚方差σ<1%；外延层载流子浓度平均值为1.79×1016 cm-3。 http://t.cn/AXfP2zWu