俄工贸部启动第3款光刻机研发——90nm制程光刻机

2026年的当前时间节点，莫斯科郊区的纳米技术中心作为总包正在对其开发的130纳米光刻机进行最后的调试优化

此研发单位，在之前已将350nm光刻机投入批量生产，交付工业生产

俄工贸部副部长表示，在最近2-3年，90纳米制程光刻机需要投入工业生产

当前，俄国的2个工厂正在用90纳米技术将用于生产各种对性能要求不高的微芯片，包括物联网（IoT）芯片、汽车电子芯片、RFID标签、SIM卡芯片、电源管理控制器芯片和传感器芯片。俄工贸部计划，在未来2-3年时间里，这些芯片都应完全在俄国内产业链配套企业的设备上生产

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