2026年3月25日，由SEMI和中国电子商会主办的第33届国际半导体展览会在上海新国际博览中心举办。展会上，上海微电子（SMEE）首次允许观众近距离拍摄其28nm浸没式DUV光刻机。产业链消息证实，SMEE的SSA800系列良率从90%跃升至95%，生产成本较ASML低40%，套刻精度±2.5nm，国产化率85%以上。

2026年一季度数据显示，中国半导体设备国产化率从2024年25%提升至35%，SMEE光刻机已进入中芯国际、华虹半导体核心产线验证。

光刻机这个事情，不给特朗普发一枚一吨重的勋章是说不过去的。上海微电子早在2002年就成立了，但因为从海外购买光刻机以及半导体芯片的渠道一直畅通无阻——换句话说，没有被卡脖子，所以光刻机的事情也一直不紧不慢，直到2016年，也只能量产90纳米光刻机，而且包含大量进口关键设备，而当时几大芯片厂已经开始生产14到16纳米芯片了。

完全可以说，如果不是特朗普对中国发起贸易战，并且强令阿斯麦禁售光刻机，中国绝对拿不出造原子弹的魄力来造光刻机，甚至可能连凝聚共识这种基础性的事情都无法做到。

从技术角度说，这次上海微电子展示的28纳米光刻机距离国际顶尖水平还有一定差距，但从市场角度说，大部分传统应用场景，诸如白色家电、汽车、工业控制等领域，并不需要追求极致的性能，使用28纳米以下芯片就足够了；而这些低制程芯片占了芯片出货量的6到7成。以中国人的特质，只要能在某个领域生存下来，就一定能在这个领域发展壮大起来，突破更高制程，赶上和超过国际先进水平只是时间问题。

讲真，对中国来说，除了大力神杯，皇冠上的明珠真的不多了。