【#中国首创刻蚀技术被全球抄作业##中国刻蚀机装备打破国外垄断#】在《对话》中，当被提问“中微为什么能在泛林和应用材料垄断的刻蚀机装备设备供应中，撕开一个口子闯进去”时，中微半导体设备（上海）股份有限公司董事长兼总经理尹志尧表示，中微公司首创的甚高频去耦合反应离子刻蚀技术，三年后被国际三大设备公司全部效仿，现在全球100%的CCP刻蚀机都采用这一技术。双台机设计也是中微首创，能节省30%以上的材料成本，售价远低于国际供应商且性能更优。#对话# http://t.cn/AXiQ11WT