制程:等效 3nm 增强版(国产工艺,非台积电 3nm),晶体管密度↑40%
能效:同性能功耗 **↓20–30%**,能效比↑35%,发热控制显著优于 9030
关键意义:彻底摆脱外部先进制程依赖,实现高端芯片自主可控
发布于 北京
制程:等效 3nm 增强版(国产工艺,非台积电 3nm),晶体管密度↑40%
能效:同性能功耗 **↓20–30%**,能效比↑35%,发热控制显著优于 9030
关键意义:彻底摆脱外部先进制程依赖,实现高端芯片自主可控