上游:材料 + 设备 + EDA/IP(基础支撑)
材料:硅片、光刻胶、电子特气、光掩模、靶材、抛光液
设备:光刻机、刻蚀机、沉积设备、离子注入机、清洗机、测试机
EDA:芯片设计软件(Cadence/Synopsys/Mentor)
IP:可复用的功能模块
发布于 天津
上游:材料 + 设备 + EDA/IP(基础支撑)
材料:硅片、光刻胶、电子特气、光掩模、靶材、抛光液
设备:光刻机、刻蚀机、沉积设备、离子注入机、清洗机、测试机
EDA:芯片设计软件(Cadence/Synopsys/Mentor)
IP:可复用的功能模块