SemiAnalysis指出，中国刻蚀设备本土化进程快于沉积设备，前端进口数据显示刻蚀同比下降18%，而沉积增长3%，反映本土供应商正快速替代进口设备。

全球刻蚀设备巨头应用材料中国收入25财年同比降16%，东京电子26财年降18%，印证了中国市场份额向本土企业转移的趋势。

北方华创被视为核心驱动力量，在长鑫存储的ICP刻蚀领域份额领先，随着长鑫扩产有望进一步扩大市场份额，凸显中国半导体设备自主化在特定环节的进展。

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