超声波雾化喷涂光刻胶，微液滴轻柔沉积，高深宽比沟槽、V 型槽侧壁全覆盖，膜层厚薄可控、均匀无堆积。大幅提升光刻图形精度，光刻胶利用率更高，适配各类硅基微结构晶圆量产，是电子微纳加工主流精密涂覆方案。#超声波喷涂 # #MEMS光刻胶# #微电子加工# http://t.cn/AXoPaA2s
发布于 浙江
驰飞超声波CHEERSONIC
超声波雾化喷涂光刻胶，微液滴轻柔沉积，高深宽比沟槽、V 型槽侧壁全覆盖，膜层厚薄可控、均匀无堆积。大幅提升光刻图形精度，光刻胶利用率更高，适配各类硅基微结构晶圆量产，是电子微纳加工主流精密涂覆方案。#超声波喷涂 # #MEMS光刻胶# #微电子加工# http://t.cn/AXoPaA2s