三星电子:HBM4E的可靠性测试良率,已提升至70%以上。
业界通常将80%以上,视为工艺稳定的"成熟良率"门槛。而HBM4E目前仍处于可靠性测试阶段,70%以上的水平被认为标志着开发进程正式进入稳定区间。
与此同时,三星电子下一代10纳米级第七代DRAM工艺(D1d),在技术竞争力上已取得对竞争对手的优势,并计划于今年11月完成生产准备认证。
发布于 浙江
三星电子:HBM4E的可靠性测试良率,已提升至70%以上。
业界通常将80%以上,视为工艺稳定的"成熟良率"门槛。而HBM4E目前仍处于可靠性测试阶段,70%以上的水平被认为标志着开发进程正式进入稳定区间。
与此同时,三星电子下一代10纳米级第七代DRAM工艺(D1d),在技术竞争力上已取得对竞争对手的优势,并计划于今年11月完成生产准备认证。