【#俄罗斯制造出两台150nm光刻机原型机# ，年底将掌握130nm光刻技术】#光刻技术#
俄罗斯泽列诺格勒纳米技术中心 (ZNTC) 已启动两套设计工艺为150nm的电子束光刻系统原型的全面测试。设备测试将持续约四个月。该系统可直接在硅片上进行微电路图案化，并可无需使用掩模即可制作光掩模。
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