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26-08-11 14:57 微博认证:集成电路社区集微网官方微博

【High-NA EUV之争:#英特尔与台积电走向两种先进制程路线# 】#英特尔##英特尔 INTC[股票]#

作为全球唯一EUV光刻机供应商,ASML正在推动下一代高数值孔径极紫外光刻技术(High-NA EUV)发展。High-NA EUV是在现有EUV技术基础上的升级,目前主流EUV设备采用0.33数值孔径(NA),而High-NAEUV则将NA提升至0.55,可进一步提高光刻分辨率。
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