DRAM 存储龙头拟提升EUV光刻性能 ，而掩模版成为关键了，SK海力士副总裁表示：“正在考虑多重曝光EUV或引入高数值孔径（High-NA）单次曝光技术，半导体掩模版作为核心半导体材料之一，2021年占全球半导体材料市场的12%，仅次于硅片和电子特气

清溢光电 688138
国内老牌掩膜龙头；主业为面板显示掩膜，同时攻坚半导体光罩；成熟制程 130‑150nm 已经量产，现阶段推进 40~28nm 高端产线，供货中芯、华虹、第三代半导体厂商。
路维光电 688401
国内唯一可量产 G11 高世代面板掩膜；半导体业务进度领先，130nm 批量供货、28‑40nm 掩膜版已经完成客户验证交付，面板 + IC 掩膜双线并行。
龙图光罩 688721
纯粹聚焦半导体 IC 掩膜、几乎不布局面板业务；90nm 稳定量产、65nm 送样验证，发力 28‑40nm 先进制程光罩，面向晶圆代工客户。