【东方晶源亮相IDAS 2026：#以AI重构先进制程光刻热点检测体系# 】#东方晶源#

随着芯片工艺向先进节点快速演进，制程节点不断逼近物理极限，良率损失问题以及良率提升“难”的问题，已经成为集成电路行业发展中必须面对的主要挑战。EDA作为集成电路产业链的一个环节，发挥着越来越重要的作用。作为国内集成电路良率管理领域的代表企业之一，东方晶源在EDA²主办的第四届设计自动化产业峰会IDAS 2026上，系统分享了近年来在AI赋能计算光刻与良率管理方向的最新技术进展——从Total Mask层面的热点早期检测体系，到感知全芯片三维光刻胶轮廓的3D-PHD技术，展示了一条以AI重构光刻热点检测、将良率问题尽可能前置的技术路径，为先进制程突破探索出一种全新可能。http://t.cn/AX0iGUCb